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              上海光機(jī)所飛秒激光多光子聚合增材制造加工精度調(diào)控研究取得研究進(jìn)展

              科研前沿
              2021
              06/17
              23:05
              分享
              評(píng)論
              信息來(lái)源:中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所薄膜光學(xué)實(shí)驗(yàn)室

              近期,中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜光學(xué)實(shí)驗(yàn)室在優(yōu)化飛秒激光多光子聚合(MPP)增材制造加工精度調(diào)控研究中取得研究進(jìn)展。研究團(tuán)隊(duì)利用對(duì)光刻膠中引發(fā)劑濃度的調(diào)控實(shí)現(xiàn)對(duì)聚合產(chǎn)物極限尺寸的有效控制,揭示了多光子聚合光化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中的擴(kuò)散行為。相關(guān)成果發(fā)表在《光學(xué)材料》(Optical Materials)。

              基于飛秒激光多光子聚合增材制造技術(shù)廣泛應(yīng)用于微機(jī)電、微光學(xué)、生物結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域的3D打印微納結(jié)構(gòu)制造。目前用于提升加工精度的主流技術(shù)路線是,提升光刻膠中的引發(fā)劑吸收截面以及調(diào)控激光焦斑的可聚焦程度,現(xiàn)階段其制造極限分辨率可達(dá)10nm量級(jí)。

              課題組通過(guò)解析多光子聚合中的光-物理-化學(xué)反應(yīng)過(guò)程,認(rèn)為光刻膠中引發(fā)劑濃度與聚合反應(yīng)持續(xù)時(shí)間有關(guān),并將最終影響聚合產(chǎn)物的極限尺寸。研究人員選擇了光引發(fā)劑是六氟銻酸鹽小分子,單體是雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂大分子的SU-8光刻膠。通過(guò)烘烤改變光引發(fā)劑的濃度,研究光引發(fā)劑在光刻膠中擴(kuò)散行為對(duì)最終聚合極限尺寸的影響規(guī)律。利用長(zhǎng)焦距、單次飛秒脈沖曝光方法獲得了扁平化聚合物,精確表征了聚合物尺寸,發(fā)現(xiàn)當(dāng)SU-8膠膜的溶劑含量從~7%下降到4%時(shí),MPP產(chǎn)物的尺寸減小了~40%。這種聚合尺寸優(yōu)化是源于溶劑含量減少導(dǎo)致的光致陽(yáng)離子擴(kuò)散能力減弱,從而使聚合反應(yīng)被約束在了更小的尺度范圍內(nèi)。

              該項(xiàng)研究成果為優(yōu)化MPP極限加工精度提供了一種新的研究思路,并且證明了在MPP過(guò)程中小分子擴(kuò)散是一種值得關(guān)注的本征過(guò)程,同時(shí)也為光刻膠優(yōu)化選擇和發(fā)展國(guó)產(chǎn)光刻膠提供了認(rèn)識(shí)基礎(chǔ)。

              該項(xiàng)研究獲得了國(guó)家自然科學(xué)基金和中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專(zhuān)項(xiàng)的支持。

              圖1 (a)增加預(yù)烘烤時(shí)間以降低SU-8中的溶劑含量(b)長(zhǎng)焦距、單脈沖曝光的扁平化MPP產(chǎn)物的正、側(cè)視圖及其高度信息

              圖2 不同溶劑含量/曝光能量密度對(duì)應(yīng)的聚合點(diǎn)尺寸統(tǒng)計(jì)(a)(b)(c)(d)分別為能量密度為~0.72J/cm2時(shí),溶劑含量分別對(duì)7.3%、5.1%、4.3%和3.2%的MPP聚合產(chǎn)物形貌



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